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JUST IN XX 連乘 BenQ Materials ,米蘭設計週獨家呈獻 前衛X環保X機能X時尚的唯一解答

PHOTO / JUST IN XX

JUST IN XX 連乘 BenQ Materials ,米蘭設計週獨家呈獻 前衛X環保X機能X時尚的唯一解答

JUST IN XX設計師周裕穎受「BRAIN TAIWAN」國際展覽邀請參加今年米蘭設計週,以「海洋環保 永續時尚」作為設計核心,打造綠色新時尚!

畢業於米蘭Domus Academy 服裝設計學院的周裕穎,自創品牌JUST IN XX一直是很有規劃的先後爭戰於東京、紐約、巴黎、上海時裝週,睽違多年回到義大利米蘭發表,作品仍然在設計週成功吸引眾人矚目。

周裕穎與BenQ集團公司合作,透過巧思將BenQ Materials明基材料新發表的AirySektor 透氣薄膜技術從隱藏在面料裡的應用帶至表層,並為了契合永續時尚的倡議,善用服裝廢料以及邊角料,重新賦予畫龍點睛的使命,也更貼近AirySektor無毒環保製程理念。

JUST IN XX設計師_Justin Chou周裕穎
JUST IN XX設計師_Justin Chou周裕穎

周裕穎以仁美衣標,生產衣標的廢料做成的耳罩
周裕穎以仁美衣標,生產衣標的廢料做成的耳罩

AirySektor的微多孔薄膜技術不含全氟化合物,是環保布料的全新選擇,利用微多孔徑小於水分子達到防水機能,同時,濕氣可以直接通過微多孔排除,並且讓內、外空氣交換,讓衣物達到透濕、換氣的效果,BenQ Materials希望藉由與JUST IN XX的合作,推廣 AirySektor 技術的應用不限於使用在Outdoor風格的服裝品牌,本系列的服飾後續也將帶至國外布料展、紡織技術展示予各國設計師作為應用示範。

JUST IN XX周裕穎米蘭設計週系列。
JUST IN XX周裕穎米蘭設計週系列。

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